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藍(lán)茵高精度晶圓噴墨打標(biāo)打點(diǎn)系統(tǒng)集成機(jī)器視覺(jué)與壓電噴墨技術(shù)，實(shí)現(xiàn)晶圓缺陷亞微米級(jí)自動(dòng)涂黑標(biāo)記。突破傳統(tǒng)手動(dòng)效率瓶頸，滿(mǎn)足ToF模組、Metalens等光學(xué)元件量產(chǎn)需求，為3D傳感、生物識(shí)別領(lǐng)域提供高可靠性標(biāo)識(shí)方案。

A[機(jī)器視覺(jué)定位]|亞微米識(shí)別精度| -->B (缺陷坐標(biāo)提取)--> C[壓電噴墨系統(tǒng)] |3pl級(jí)墨滴控制|--> D(微米級(jí)精準(zhǔn)打點(diǎn)) --> E[SECS/GEM協(xié)議集成] --> F(智能制造系統(tǒng)無(wú)縫對(duì)接)

超高精密打點(diǎn)系統(tǒng)三大技術(shù)模塊

一、工業(yè)視覺(jué)識(shí)別系統(tǒng)

毫秒級(jí)不良品定位（＞500fps幀率） 亞微米級(jí)坐標(biāo)定位誤差（±2μm）

三、智能控制平臺(tái)

支持SMEMA/E84通信協(xié)議 可定制配方管理（＞200組工藝參數(shù)）

此方案已應(yīng)用于12英寸晶圓量產(chǎn)線(xiàn)，為3D成像、生物識(shí)別等前沿領(lǐng)域提供標(biāo)識(shí)技術(shù)底座，加速半導(dǎo)體噴墨設(shè)備國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。